家登表示,身為半導體關鍵材料傳載技術的領導廠商,目前半導體技術仍持續往先進製程發展,但必須緊跟半導體產業中大者恆大的競爭態勢,發展蛛網式策略夥伴關係,發揮綜效。近期EUV微影技術的進展受到高度關注,家登EUV Pod也持續緊跟國際大廠技術開發腳步,全力配合產業發展10/7奈米以下試產與量產時程,相信伴隨半導體技術推進,出貨將穩健放量。
根據微影設備大廠艾司摩爾(ASML)的說明,採用第三代EUV設備NXE:3300B客戶的每日EUV曝光晶圓產能已逾1,000片,而採用第四代NXE:3350B客戶的每日曝光晶圓產能更超過1,250片。同時,所有客戶目前已安裝的EUV設備,每月曝光晶圓產能已超過1.5萬片,而ASML與客戶今年共同努力的目標是要每天超過1,500片。
家登公告2月合併營收達1.40億元,較1月衰退24.2%,但與去年同期相較仍成長16.0%,改寫歷年同期新高,累計今年前2個月營收達3.26億元,較去年同期成長13.2%。家登表示,在2月份工作日天數減少與春節連假下,仍交出亮眼的成績單,為團隊注入一劑強心針,估計今年營運表現首季淡季不淡,於第二季市場升 溫後逐季向上成長。
除了英特爾及台積電已確立朝向EUV發展外,三星及SK海力士的記憶體製程今年亦開始大量利用EUV進行試產。隨著全球EUV產能在今年逐季拉升,極紫外光光罩盒(EUV Pod)供應商家登(3680)已獲台美韓等國際大廠訂單,今年將逐季放量出貨。
7奈米以下先進製程繼續採用多重曝影(multi-patterning)浸潤式(immersion)微影技術的成本太高,半導體大廠今年已正式確立將導入極紫外光(EUV)技術。繼英特爾重申將自7奈米製程世代開始採用EUV量產後,台積電、三星均開始評估在5奈米採用EUV技術生產邏輯晶 片。
對英特爾、台積電、三星等半導體廠來說,7奈米以下製程繼續採用浸潤式多重曝影技術已經不具成本效益,所以,7奈米及5奈米轉向採用EUV技術已是勢在必行。隨著EUV生態系統愈趨完整,每日及每月產 量在今年明顯拉高,提供EUV Pod的家登直接受惠。
工商時報【記者涂志豪╱台北報導】
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根據微影設備大廠艾司摩爾(ASML)的說明,採用第三代EUV設備NXE:3300B客戶的每日EUV曝光晶圓產能已逾1,000片,而採用第四代NXE:3350B客戶的每日曝光晶圓產能更超過1,250片。同時,所有客戶目前已安裝的EUV設備,每月曝光晶圓產能已超過1.5萬片,而ASML與客戶今年共同努力的目標是要每天超過1,500片。
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